前工程
硅锭切割工艺：金属转子流量计 ,用于监测切割液的流量稳定
硅片氧化、化学气相沉CVD、 离子注入工艺 :气体质量流量控制器,严格控制几路气体(O2,H2,N2,Ar, HCL等
)的流量值,使工艺稳定。
硅片光刻工艺：耐腐蚀玻璃转子流量计\超声波流量计, 应对一些显影液等工艺流体。
硅片刻蚀工艺：气体质量流量控制器,严格控制几路气体(O2,H2,N2,Ar, HCL等
)的流量值,使工艺稳定。
硅片清洗工艺：超声波流量计\涡街流量计\浮子流量计\流量控制器, 控制工艺药液和去离子水的流量值。
化学机械平坦化CMP工艺：流量控制器,应对一些化学药液和Slurry抛光液等,精确控制流量值。

后工程
硅片划片工艺：浮子流量计,监控几个划片主轴的制冷纯水的流量值.

硅片粘片工艺：浮子流量计, 监控几路氛围工艺气体的流量值稳定.
硅片键合工艺：浮子流量计, 监控几路氛围工艺气体的流量值稳定.